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光电所大角度衍射光学元件批量化制备方法取得进展

时间:2021-09-07 02:09:01 来源:米6体育下载 点击:

本文摘要:中科院光电技术研究所微电子装备总体研究室微光学组在大角度散射光学元件批量化制取方法研究上获得新进展:明确提出了一种基于纳米压印技术的大角度散射光学元件批量化低成本制取新方法。由于纳米压印模板可以多次重复用于,平均值成本减少,需要构建从微米到纳米横跨尺度相容的散射光学元件的低成本、批量化制取。涉及结果公开发表于近期的ActaPhotonicaSinica。

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中科院光电技术研究所微电子装备总体研究室微光学组在大角度散射光学元件批量化制取方法研究上获得新进展:明确提出了一种基于纳米压印技术的大角度散射光学元件批量化低成本制取新方法。由于纳米压印模板可以多次重复用于,平均值成本减少,需要构建从微米到纳米横跨尺度相容的散射光学元件的低成本、批量化制取。涉及结果公开发表于近期的ActaPhotonicaSinica。

  散射光学元件由于体积小、设计灵活性、散射效率高等优点,被普遍应用于光学传感、光通讯、光计算出来、医学、数据存储和消费娱乐等领域。目前在一些前沿性的研究领域,如激光雷达中的广角三维地形地貌观测、三维测量等,迫切需要具备大角度(小于50)的散射光学元件。

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现有的加工散射光学元件的技术有很多种,但成本高、加工周期长,难以实现批量化生产。因此,研究散射光学元件的低成本、批量化制取方法具备最重要意义。  本研究将纳米压印技术应用于散射元件的加工当中,压印母板在无损伤的前提下可以无限次的重复使用,即一块压印模板可以在短时间内压印制取出有多个散射元件,大大降低了制取成本,提升了生产效率。

基于纳米压印技术的高精度、高分辨率、低成本、低产量等优点,以及改良的脱模防粘、对准压印技术,构建了大角度、高深宽比散射光学元件高保真、低成本、批量化制作的目的。  该工作获得了国家自然科学基金的反对。


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